用途：

该X射线晶体分析仪，主要用于研究物质内部微观结构。如：单晶定向、检验缺陷、物质定性、测定点阵参数、测定残余应力等。

主要参数：

电  源：AC220V  50HZ  30A

功  率：2KW

靶  材：Cu（可选其他靶材）

管电压：50KV（分档可调）

管电流：50mA（分档可调）

稳定度：±1%

保  护：过功率、过电压、过电流、无水

冷  却：循环水、制冷水箱

防  护：铅有机玻璃防护罩

相  机：

a)德拜相机（粉沫相机）大、小两种

b)劳厄相机（平板相机）

上述两种相机，用户可自选配置